聚焦离子/电子双束电镜 仪器简介
主机：聚焦离子电子双束电镜（FIB）
附件：能谱仪（EDS）、电子背散射衍射仪（EBSD）
型号：
FIB：ThermoFisher Scientific Helios G4 CX
EDS: Oxford Instrument AZtec X-max 80
EBSD: Oxford Instrument Symmetry S2
仪器主要性能
FIB：
l 仪器用途：用于微纳加工、微纳结构观察及分析、微纳化学成分测试及分析、高质量定点TEM样品制备、TKD（透射背散射衍射）、三维重构分析。
l 真空度：> 5 × 103 Pa
l 电子束：
电子枪类型：肖特基（ZrO/W）场发射灯丝
分辨率：在最佳工作距离：≤ 0.8nm @ 15kV；≤ 1.2nm @ 1kV;1.0nm@1kV(减速模式)；在束交叉点分辨率：≤ 0.8nm @ 15kV；≤ 2.5nm @ 1kV。
在束交叉点和大倾转角时，能有优异的图像质量(样品加工后，能快速切换到电子束检查与成像)
束交叉点工作距离：4－5mm
加速电压：加速电压200V－30KV
束流强度：最大束流22nA
可用探头：二次电子探测器（ETD）、高分辨背散射电子探测器（ABS/CBS）
l 离子束：
离子源种类：液态Ga离子源
交叉点分辨率：≤ 4.0nm @ 30kV (采用Multi-edge平均值法测量)，≤ 2.5nm @ 30kV (采用selective edge最佳值法测量)
加速电压：最低加速电压500V, 最高加速电压为30 kV
束流强度：最大可达65nA
辅助气体注入系统（GIS）：C / Pt
具备可直接导入Bitmap/CAD文件，按照预先设定的间距，进行离子束沉积，加工复杂图形的能力；
EDS：
l 探测器：分析型SDD硅漂移电制冷探测器，晶体有效面积110mm2，晶体活区面积80mm2。
l 能量分辨率：Mn Ka保证优于127eV, 元素分析范围: Be4～Cf98；
l 定量分析：可对抛光表面或粗糙表面定量分析。采用XPP定量修正技术, 可对倾斜样品进行修正, 并增强对轻元素的修正; 具有完备的虚拟标样库; 具备有标样定量分析及无标样定量分析方法; 可以得到归一化和非归一化定量结果, 可以用化学配位法得到非归一化结果。
EBSD：
l 空间分辨率：0.1um；角度分辨率：优于0.5°
l 高解析率（1344x1024像素）CMOS数字相机，在识别率优于99%条件下每秒采集并解析100点以上；
l 灵敏度：加速电压5kv，束流小于100pA时可采集到花样；
l 数据采集软件与能谱分析能实现一体化；能够对所有对称（从三斜晶系到立方晶系）晶体材料的电子背散射衍射花样进行完全自动化标定以及相应其他模式功能的分析。
仪器负责人：陈涛教授
电话：189 7161 6137
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